沃爾福2000℃真空燒結爐介紹

沃爾福2000℃真空燒結爐采用石墨加熱，加熱溫度可達2000℃。

2000℃真空燒結爐可在同一爐體內實現真空、脫脂、預燒結，生產工序一次性完成，較好的提高生產效率和產品質量。可實施在氬氣、氮氣和還原性氣分保護下低壓力燒結，減少元素揮發損失。

一、主要應用領域

1、硬質合金、CIM、MIM等可進行脫蠟，脫氣，燒結及連續處理。

2、非氧化物系列陶瓷，氮化硅，碳化硅，可進行脫蠟，脫氣，燒結及連續處理。

3、石墨，脫氣，提純的連續處理。

二、產品特點

1、根據爐溫高低和工藝要求，采用石墨發熱體及隔熱屏。發熱體可分成多區布置；各區獨立控溫，可編程PID調節溫度精確均勻。

2、采用石墨加熱元件、石墨氈隔熱層，設計溫度可達2200℃，加熱溫度均勻性高，壽命長。

3、充氣流量控制，爐內壓力控制裝置，實現微負恒壓燒結，抑制金屬揮發損失，改善產品致密性及質量。

4、具有安全互鎖、故障診斷和異常報警等功能。

三、技術參數